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300283
CNAS国家认可实验室由公司检测中心生长而来，检测中心1997年建设，2012年扩建，2014年获得由中国及格评定国家认可委员会揭晓的ISO/IEC 17025系统认可证书。
公司CNAS国家认可实验室是海内偕行中检测设施完善的质料测试基地，为公司质料研发、产品质量控制、质料应用研究和产品失效剖析提供一站式的检测和试验解决计划。现在已形成了计量校准、化学因素剖析、组织结构剖析、物理机械性能检测和电气性能试验等一套完整的质料检测试验系统。同时，实验室在各个专业领域都设置专业的手艺和管理职员，以及业内领先的剖析试验仪器装备。
公司CNAS国家认可实验室自建设以来，检管理逐步完善，检测能力一直提升，形成了完整有用的质量管理系统，以规范的行为、过硬的手艺、优质的服务赢得客户赞誉。
GeminiSEM 300扫描电子显微镜能同时举行Inlens二次电子成像和背散射电子成像，区分率可达0.7nm，可实现快速，高质量，无畸变的大规模成像和亚纳米区分成像。配备100mm2窗口EDS探测器，能够快速完成点、线、面元素的定量测定；EBSD探测器，收罗无畸变、百万像素区分率的名堂，用于细腻的应变和相剖析。
电感耦合等离子体发射光谱仪具卑锸直双视察结构（DSOI），提升了迅速度，同时降低了样品基体效应。优异的ORCA光路结构，可同时读取130-770nm谱线信号，和通常的中蹊径光栅+棱镜交织色散的光学系统相比，光强度信号提升可高达5倍，紫外/远紫外区的迅速度提高无与伦比。
SPECTROLAB S 拥有天下上第一个基于CMOS的探测器的纪录系统，该系统很是适合于高端金属剖析。从微量元素到多基体应用，它提供了极其快速、高度准确、异常无邪的手艺选择。
novAA 800F接纳集成的8灯座，具有编码灯识别功效，氘空心阴极灯配景校正，履历证的单、双光束模式和发射模式，以及最新的SiOSens半导体固态检测器。 富厚智能的配件，最洪流平地提高了检测效率，极佳的清静性和剖析程序的用户友好性，适合高效通例剖析。
68TM-30型万能质料试验机搭载的30kN和1kN载荷传感器在0.1～100%规模内精度可达0.5级。整个试验系统可以举行集成化数据闭环控制和收罗、传感器的自动识别和标定。配备的高精度非接触式视频引伸计AVE2区分率为0.5微米，有正交极化照明系统和CDAT电扇专利可消除职员、照明、气流对实验效果的影响，获得可重复性高准确的应变丈量效果。
VR-5200 3D轮廓仪投射条纹状结构光，通过高细腻CMOS传感器使光线成像，丈量出各点的高度和位置。配备的低倍镜头使丈量区域大至200×100×50 mm，高倍镜头使显示区分率小至0.1μm，可实现非接触批量化丈量产品形状，升沉，粗糙度。
IM-8020接纳了双远心镜头,拥有轶群的边沿检测能力,可实现一键丈量具有差别高度差的样品尺寸，依附2000 万像素CMOS和边沿检测新算法，检测性能是古板机型的3 倍, 丈量区域可达300mm × 200mm，丈量速率是古板机型的2 倍. 只需数秒即可丈量完最多300 个部位。能快速、准确、简朴的丈量，大幅度提高丈量精度，缩短丈量时间和人为误差。
HELOS/BR型激光粒度仪设置了RODOS干法疏散系统，能有用的疏散粉体，知足特殊粒度检测要求，实现了快速且高重复性的粒度剖析。丈量规模：0.3~175μm，丈量相对精度：＜0.3%。
STA 449 F3具有结实、无邪、易于操作的特点，很是适条约时测试热效应和质量的转变，综合了高性能热流型DSC和超高迅速度天平，可以提供极致的称重与丈量规模。
规模
本标准划定了电触头质料密度的测定要领。
本标准适用于种种电触头质料的密度的丈量。
规模
本标准划定了电触头质料体积电阻率的测定要领。
本标准适用于种种电触头质料的体积电阻率的丈量。
规模
本标准划定了电触头质料中银含量的测定要领。
硫氰酸盐容量法适用非熔渗法制造的电触头质料银含量的测定。测定规模：
5.00%~99.00%。
碘量法适用于熔渗法制造的银钨、银碳化钨电触头质料中银含量的测定。测定规模：
25.00%~85.00%。
公司低压电器实验站建设于2013年，通过模拟质料的现实应用场景研究其应用特征，为新项目举行前期摸底试验，为新质料提供前瞻性的产品适用性研究。
通过多年一直生长，已形成了较完整的低压电器试验能力，可做接触器、断路器、继电器、�；て鞯鹊牡缡倜⑽律⒍搪返认钅�。
